AIXTRON 200/4 RF-S Metalorganik Kimyasal Buhar Biriktirme Yöntemi (MOCVD)
27 Aralık 2024
Metalorganik kimyasal buhar biriktirme (MOCVD) tekniği, buhar fazındaki metalorganik öncüllerin ve hidritlerin (V grubu element ile hidrojenin yaptığı AsH3, NH3, PH3 vb. bileşikler) katı fazdaki alttaş üzerine ince film halinde epitaksiyel olarak büyütülmesi olarak adlandırılmaktadır.
- AIXTRON 200/4 RF-S, Aixtron marka yatay akışlı reaktöre sahip MOCVD sistemidir.
- MOCVD Sistemi N ve As/P tabanlıdır.
- 2” ya da 3” alttaşlar üzerine nm ölçeğinde epitaksiyel büyütme yapabilme özelliğine sahiptir.
- Katman kalınlığı ve bileşimi üzerinde hassas kontrol ile karmaşık çok katmanlı epitaksiyel yapılar büyütme kapasitesine sahiptir.
- Reaktör hücresi M.Braun inert atmosfer eldiven kutusu ile entegredir.
- Yüksek alttaş sıcaklığına ulaşabilme (1450 ºC) özelliğine sahiptir.
- Radyo frekans (RF) ısıtma sistemine sahiptir.
- III grubu gaz kaynakları (Metal Organik Kaynaklar):
- Trimetil Galyum – TMGa
- Trimetil Alüminyum – TMAl
- Trimetil İndiyum – TMIn
- V grubu gaz kaynakları (Hidritler):
- Arsin – AsH3
- Fosfin – PH3
- Amonyak – NH3
- Katkılama gaz kaynakları:
- Dimetil Çinko – DMZn
- Karbon tetrabromit – CBr4
- BisCyclopentadienemagnezyum – CBr2Mg
- Silan – SiH4
- Taşıyıcı gaz kaynakları:
- Yerinde yansıma ve sıcaklık ölçümü yapan LUXTRON kontrol birimi bulunmaktadır.
- Acil kapatma, gaz kaçağı tespiti ve amonyak, fosfin ve hidrojen drager gaz algılama sensörleri dahil olmak üzere kapsamlı güvenlik özellikleri içermektedir.
- Metalorganik kaynakları buhar basınç dengesi için sıcaklığı kontrol edilebilir su banyolarında tutulmaktadır.
- Reaktöre gönderilen gazların miktarları kütle akış kontrol elemanları ile sağlanmaktadır.
- MOCVD sisteminde bulunan tüm kütle akış kontrolörleri ve basınç kontrolörlerinin bilgisayar kontrolü bir arayüz birimine bağlıdır.
- Tüm işlem parametreleri üzerinde hassas kontrol ve gerçek zamanlı izleme sağlayan kullanıcı dostu yazılıma sahiptir.
- Büyütme esnasında kimyasal reaksiyonlar sonucu ortaya çıkan artık gazlar egzozdan reaktör ortamı dışına atılmaktadır.